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    KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 應用于 AlTiN 涂層研究
    發布者:bdqysh  發布時間:2021-01-05 15:46:16

    四川某大學實驗室研究靶電流, 偏壓、沉積時間等各試驗工藝參數對兩組試樣 AlTiN 涂層力學性能的影響旨在找出能夠鍍制優良性能涂層的最佳工藝方案的項目中采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 作為濺射源.

     

    伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 技術參數:

    型號

    RFICP140

    Discharge

    RFICP 射頻

    離子束流

    >600 mA

    離子動能

    100-1200 V

    柵極直徑

    14 cm Φ

    離子束

    聚焦平行散射

    流量

    5-30 sccm

    通氣

    Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

    典型壓力

    < 0.5m Torr

    長度

    24.6 cm

    直徑

    24.6 cm

    中和器

    LFN 2000

     

    AlTiN 涂層具有高抗氧化性良好熱硬性摩擦系數低與基體之間結合力強耐磨性強等優點因此AlTiN涂層在機械加工行業,尤其是在刀具領域,一直是研究的熱點.

     

    KRI 離子源的獨特功能實現了更好的性能增強的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經獲得了理想的薄膜和表面特性而這些特性在不使用 KRI 離子源技術的情況下是無法實現的.

     

    KRI 離子源是領域公認的領導者已獲得許多專利. KRI 離子源已應用于許多已成為行業標準的過程中.

     

    伯東是德國 Pfeiffer 真空泵檢漏儀質譜儀真空計美國 KRI 考夫曼離子源美國HVA 真空閥門美國 inTEST 高低溫沖擊測試機美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

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