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    鄭科探小型磁控濺射儀能用銀靶材嗎
    發布者:zzktyq888  發布時間:2021-06-09 10:33:32

          

        KT-Z1650CVD是一款小型臺式蒸發功率可控蒸發鍍膜儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉,樣品高度調節,及電動擋板功能。通過定時調節預熱功率及蒸發功率,可對大部分金屬進行均勻蒸發沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜和有機物薄膜。









    設備名稱

    小型濺射儀

    小型蒸鍍儀

    控制方式

    7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

    7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

    工作電源

    直流濺射電源

    直流熱蒸發電源

    鍍膜功能

    0-9995段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

    0-9995段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

    功率

    1000W

    1500W

    輸出電壓電流

    電壓≤1000V  電流≤1A

    電壓≤12V  電流≤100A

    真空

    機械泵 ≤5Pa5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

    腔體真空

    30Pa

    擋板類型

    電控

    真空腔室

    石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

    石英腔體φ160mm x 160mm

    樣品臺

    可旋轉φ62  (可安裝φ50基底)

    樣品臺轉速

    8/分鐘

    樣品濺射源調節距離

    40-105mm

    70-140mm

    蒸發坩堝容積

    3ML

    蒸發溫度調節

    1600

    真空測量

    皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa  1E-1Pa

    預留真空接口

    KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進氣口

    可選配擴展

    1 膜厚在線測試    2 分子泵

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