廢氣凈化塔的適用范圍：
電鍍、表面處理、單晶硅酸洗、半導體清洗、電子制造、漆包線、噴涂用廢氣凈化塔
漆噴涂、涂裝生產等行業及領域。屬于兩相逆流氣體凈化塔填料吸收塔。廢氣從廢氣處理塔的下入口切向地進入凈化塔。在風扇的動態作用下，它快速地填充進氣段的空間，然后均勻地通過平衡段上升到填料吸收段。在填料表面，氣相中的酸性（或堿性）物質與液相中的堿性（或酸性）物質發生反應，反應物（主要是可溶性酸（堿）與吸收劑流入較低的儲罐。未完全吸收的酸性（或堿性）氣體繼續上升到階段的噴霧。
適用于電鍍生產廢氣凈化塔、表面處理、單晶硅酸洗、半導體、電子制造、漆包線噴漆清潔和涂料生產等行業和領域。
售后服務流程客戶報修問題反饋工作出發售后跟蹤解決問題售后結束客戶回訪1、維修響應：我工程部接到報障后，我應立即做出響應，我人員與貴企業人員進行相互溝通，在4小時內解決問題恢復正常運行，如不能解決在交通條件準許下24小時內到達現場進行維修。 全新改版，點擊查看。等離子體voc有機廢氣處理設備除臭過程一、除臭過程（1）預過濾：經過空氣過濾器的有效過濾,以廢氣潔凈度和離子氧凈化廢氣的效果。（2）氧化除臭：用來進一步去除綜合性惡臭異味。經過預過濾的廢氣被導入高濃度離子氧發生區域，與離子氧群混合，離子氧群將致臭污染物降解成二氧化碳和水以及其它小分子，經過凈化后的空氣通過通風管道排入到大氣中。
需要注意的是，在燃燒過程中形成的中間產物可能比原來的污染物危害更大，所以必要掌握好燃燒溫度、時間，以保證燃燒。催化燃燒法是借助催化劑，使廢氣在較低溫度(200~500℃)下燃燒；直接燃燒法一般采用焚燒爐進行處理，但是直接燃燒法消耗染料較多，僅適用于處理熱值較高的廢氣。 【廢氣處理工藝流程圖】等離子體有機廢氣處理設備除臭特點（1）處理效率高Hightreatmentefficiency離子氧除臭裝置能有效去除（H2S）、氨（NH3）、甲硫醇等特定的污染物，以及各種異（臭）味，效果可達90%以上。 UV＋O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),眾所周知臭氧對有機物具有極強的氧化作用，對惡臭氣體及其它性異味有立竿見影的清除效果。下圖為發生反應的催化劑載體：4、利用高能UV光束裂解惡臭氣體中的分子鍵，破壞的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應，達到脫臭及殺滅的目的。
5.UV光氧催化設備設備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件；進口材料制造，防水、防火、防腐蝕，使用壽命長。6.UV光氧催化設備產品性能：高功率鎮流器經幾年已相對成熟。為了日后方便檢修，每個鎮流器設置電源和工作指示燈，可根據指示燈排查燈管或整流器故障。 填料塔底部裝有填料支承板，填料以亂堆方式放置在支承板上。填料的上方安裝填料壓板，以防被上升氣流吹動。噴淋液從塔頂經液體分布器噴淋到填料上，并沿填料表面流下。氣體從塔底送入，經氣體分布裝置分布后，與液體呈逆流連續通過填料層的空隙，在填料表面上，氣液兩相密切進行傳質。 適用范圍廣，尤其適用于處理大氣量、中高濃度的廢氣，對疏水性污染物質有很好的去除率。占地小，低；管理方便，即開即用；耐沖擊負荷，不易被污染物濃度及溫度變化影響。需消耗一定量的藥劑，運行成本較高，催化劑操作不當會中，存在二次污染。 光氧催化廢氣處理設備優勢（1）低溫深度反應：光催化氧化可在常溫將空氣、水和土壤中有機污染物氧化成無害的物質。而的高溫焚燒則需要在極高的溫度下才可將污染物摧毀，即使用常規的催化氧化方法亦需要幾的高溫。