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Anric原子層沉積系統(tǒng),AT-410AtomicLayerDepositionSystem
Anric原子層沉積系統(tǒng),AT-410AtomicLayerDepositionSystem 價格:100.00  元(人民幣) 產(chǎn)地:湖北武漢
最少起訂量:1 發(fā)貨地:湖北武漢
上架時間:2023-12-14 08:02:10 瀏覽量:64
武漢邁可諾科技有限公司  
經(jīng)營模式:代理商 公司類型:私營有限責任公司
所屬行業(yè):實驗室設(shè)備/實驗室儀器 主要客戶:高校實驗室科研單位
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聯(lián)系方式

聯(lián)系人:趙經(jīng)理 (先生) 手機:18221354817
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詳細介紹

產(chǎn)品參數(shù)
品牌美國Anric
前級泵10L/min
加熱方式普通標準加熱
外形尺寸桌面式
外包材質(zhì)紙盒
基準溫度25℃
漏率小于1.0E-8Pa.m3/s
發(fā)貨地武漢
產(chǎn)地美國(原裝進口)
起訂量1套起批
可售賣地全國
型號AT-410

概括

原子層沉積(Atomic layer deposition)是一種可以將物質(zhì)以單原子膜形式一層一層的鍍在基底表面的方法。原子層沉積與普通的化學沉積有相似之處。但在原子層沉積過程中,新一層原子膜的化學反應是直接與之前一層相關(guān)聯(lián)的,這種方式使每次反應只沉積一層原子。



應用領(lǐng)域

原子層沉積技術(shù)由于其沉積參數(shù)的高度可控型(厚度,成份和結(jié)構(gòu)),優(yōu)異的沉積均勻性和*性使得其在微納電子和納米材料等領(lǐng)域具有廣泛的應用潛力。該技術(shù)應用的主要領(lǐng)域包括:

1)?晶體管柵極介電層(high-k)和金屬柵電極(metal gate)

2)?微電子機械系統(tǒng)(MEMS)

3)?光電子材料和器件

4)?集成電路互連線擴散阻擋層

5)?平板顯示器(有機光發(fā)射二極管材料,OLED)

6)?互連線勢壘層

7)?互連線銅電鍍沉積籽晶層(Seed layer)

8)?DRAM、MRAM介電層

9)?嵌入式電容

10)?電磁記錄磁頭

11)?各類薄膜 lt;100nm)


技術(shù)參數(shù):

基片尺寸:4英寸、6英寸;

加熱溫度:25℃~350℃;

溫度均勻性:±1℃;

前體溫度范圍:從室溫至150℃,±2℃;可選擇加熱套;

前驅(qū)體數(shù):一次同時可處理多達?5?個?ALD?前體源;

PLC?控制系統(tǒng):7英寸16?位彩色觸摸屏HMI控制;

模擬壓力控制器:用于快速壓力檢測和脈沖監(jiān)測

樣品上載:將樣品夾具從邊上拉出即可;

壓力控制裝置:壓力控制范圍從0.1~1.5Torr

兩個氧化劑/還原劑源,如水,氧氣或氨氣;

在樣品上沒有大氣污染物,因為在沉積區(qū)的附近或上游處無?Elestamor O?型圈出現(xiàn);

氧化鋁催化劑處理能力:6-10?次/分鐘或高達?1.2?納米/?分鐘(同類zui佳)

高縱橫比沉積,具有良好的共形性

曝光控制,用于在?3D?結(jié)構(gòu)上實現(xiàn)所需的共形性;

預置有經(jīng)驗證過的?3D?和?2D?沉積的優(yōu)化配方;

簡單便捷的系統(tǒng)維護及安全聯(lián)鎖;

目前市面上占地zui小,可兼容各類潔凈室要求的系統(tǒng);

可以為非標準樣品而訂制的夾具,如?SEM / TEM?短截線


原子層沉積ALD的應用包括:

1) High-K介電材料?(Al2O3, HfO2, ZrO2, PrAlO, Ta2O5, La2O3);

2)導電門電極?(Ir, Pt, Ru, TiN);

3)金屬互聯(lián)結(jié)構(gòu)?(Cu, WN, TaN,Ru, Ir);

4)催化材料?(Pt, Ir, Co, TiO2, V2O5);

5)納米結(jié)構(gòu)?(All ALD Material);

6)生物醫(yī)學涂層?(TiN, ZrN, TiAlN, AlTiN);

7) ALD金屬?(Ru, Pd, Ir, Pt, Rh, Co, Cu, Fe, Ni);

8)壓電層?(ZnO, AlN, ZnS);

9)透明電學導體?(ZnO:Al, ITO);

10)紫外阻擋層?(ZnO, TiO2);

11) OLED鈍化層?(Al2O3);

12)光子晶體?(ZnO, ZnS:Mn, TiO2, Ta3N5);

13)防反射濾光片?(Al2O3, ZnS, SnO2, Ta2O5);

14)電致發(fā)光器件?(SrS:Cu, ZnS:Mn, ZnS:Tb, SrS:Ce);

15)工藝層如蝕刻柵欄、離子擴散柵欄等?(Al2O3, ZrO2);

16)光學應用如太陽能電池、激光器、光學涂層、納米光子等?(AlTiO, SnO2, ZnO);

17)傳感器?(SnO2, Ta2O5);

18)磨損潤滑劑、腐蝕阻擋層?(Al2O3, ZrO2, WS2);


目前可以沉積的材料包括:

1)氧化物: Al2O3, TiO2, Ta2O5, ZrO2, HfO2, SnO2, ZnO, La2O3, V2O5, SiO2

2)氮化物: AlN, TaNx, NbN, TiN, MoN, ZrN, HfN, GaN, ?

3)氟化物: CaF2, SrF2, ZnF2,

4)金屬: Pt, Ru, Ir, Pd, Cu, Fe, Co, Ni, ?

5)碳化物: TiC, NbC, TaC, ?

6)復合結(jié)構(gòu)材料: AlTiNx, AlTiOx, AlHfOx, SiO2:Al, HfSiOx, ?

7)硫化物: ZnS, SrS, CaS, PbS,




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