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采用無刻蝕低溫鍍鐵工藝，電源用KGDS-1200型可控不對稱交—直流自動鍍鐵電源。主要性能是三相電網進線，主電路采用T型變壓器，利用三只1000 A/200 V大功率可控硅可獲得可控交流輸出及可控直流輸出。由于T型變壓器副邊繞組相位差90。，因此輸出的整流波形為雙峰脈動間歇

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波，這種波形有利于鍍鐵，這是因為雙峰脈動間歇波能使工件得到比平均值大得多的電流密度，并使沉積速度大大提高。而在波形的間歇時間陰極膜中的離子可以得到足夠的補充，從而得到接合牢固、齒輪泵平滑光亮的鍍鐵層。無刻蝕低溫鍍鐵工藝。鍍鐵設備主要是電源及鍍槽，宜用兩個槽子：一個槽子電鍍，一個槽子過濾。其工藝流程簡述如下。a．檢查零件鍍鐵部位的尺寸，是否有裂紋。b．清洗除油（可用汽油，堿水

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煮），嚴禁將油污帶進電鍍槽內。．上掛具。掛具要導電性好，在鍍長零件時最好兩端通電。d．絕緣。不鍍部位可用塑料布或絕緣漆進行絕緣。e．打磨。，一般用砂布打出金屬光澤即可。f．腐蝕。用稀鹽酸對基體表面進行腐蝕，使表面活化呈灰白色。稀鹽酸的成分與工件含碳量有關，對中碳鋼采用含有so%的鹽酸，對高碳鋼采用含80%的鹽酸進行腐蝕。g．浸蝕。將腐蝕完的零件立即用清水沖洗，掛入鍍槽，用氯化

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亞鐵腐蝕進一步活化表面，使零件與鍍液溫度平衡。h．交流對稱起鍍。用10～20A/dm2的電流密度起鍍，時間2—4min，目的是使工件表面進一步活化，去掉零件表面的凸起，提高接合強度及鍍層表面的i1i．交流不對稱起鍍。時間25～30min，正半波不變，負半波逐漸減少。．直流鍍。從此開始計算沉積速度，電流密度可選15 -25A/drr12。