Pfeiffer(普發(fā))真空泵在半導(dǎo)體與集成電路(IC)制造中的詳細(xì)應(yīng)用 |
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價格:19999 元(人民幣) | 產(chǎn)地:廣東東莞市 |
最少起訂量:1臺 | 發(fā)貨地:廣東東莞市 | |
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東莞市飛粵真空科技有限公司
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經(jīng)營模式:經(jīng)銷商 | 公司類型:私營有限責(zé)任公司 | |
所屬行業(yè):真空泵 | 主要客戶:全國 | |
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Pfeiffer(普發(fā))真空泵在半導(dǎo)體與集成電路(IC)制造中的詳細(xì)應(yīng)用
Pfeiffer 作為全球高端真空技術(shù)的領(lǐng)導(dǎo)者,其產(chǎn)品在半導(dǎo)體制造中扮演著關(guān)鍵角色,覆蓋從晶圓制備到芯片封裝的多個核心環(huán)節(jié)。 1. 半導(dǎo)體制造核心工藝與Pfeiffer真空泵的應(yīng)用 (1)晶圓加工前道工藝** - 光刻(Lithography) - 需求:極潔凈的真空環(huán)境(≤10?? mbar)以消除微粒和氣體干擾。 - Pfeiffer方案: - 渦輪分子泵(HiPace系列):為光刻機(jī)鏡頭和掩模版?zhèn)}提供超高真空(UHV),確保曝光精度。 - 干式前級泵(A3系列):避免油污染,配合EUV光刻機(jī)的極紫外光源系統(tǒng)。 - 薄膜沉積(CVD/PVD) - 需求:均勻鍍膜(如SiO?、SiN?)、低顆粒殘留。 - Pfeiffer方案: - 羅茨泵(OktaLine系列):快速抽真空至10?? mbar,提升沉積速率。 - 低溫泵(CoolVac):用于ALD(原子層沉積),實現(xiàn)原子級薄膜控制。 - 刻蝕(Etching) - 需求:精確控制等離子體環(huán)境(如反應(yīng)離子刻蝕RIE)。 - Pfeiffer方案: - 復(fù)合泵組(分子泵+螺桿泵):維持刻蝕腔體的穩(wěn)定低壓(10??~10?? mbar),確保刻蝕均勻性。 (2)離子注入與摻雜 - 需求:高真空(10?? mbar)下精準(zhǔn)控制離子束。 - Pfeiffer方案: - 離子泵(Ion Pump):為離子注入機(jī)提供無振動真空,避免劑量偏差。 (3)芯片封裝與測試 - 需求**:防止氧化、降低熱阻(如TSV硅通孔工藝)。 - Pfeiffer方案: - 干式螺桿泵用于真空貼片機(jī),確保芯片與基板無氣泡粘合。 2. Pfeiffer產(chǎn)品的技術(shù)優(yōu)勢與半導(dǎo)體行業(yè)適配性
- EUV光刻機(jī)(ASML): Pfeiffer的HiPace 3000渦輪分子泵用于維持光刻機(jī)光學(xué)系統(tǒng)的UHV環(huán)境,確保13.5nm極紫外光的傳輸效率。 - 3D NAND存儲芯片生產(chǎn): A3系列干泵在多層堆疊工藝中快速抽除刻蝕副產(chǎn)物氣體,防止結(jié)構(gòu)坍塌。 - 碳化硅(SiC)功率器件: CoolVac低溫泵**在高溫外延(Epitaxy)中控制背景雜質(zhì)濃度。 4. 與競品的差異化對比 - vs. 愛德華(Edwards): Pfeiffer在超高真空響應(yīng)速度和耐等離子體腐蝕方面更優(yōu),適合高頻工藝(如刻蝕)。 - vs. 國內(nèi)品牌(如北儀優(yōu)成): Pfeiffer專注于**7nm以下先進(jìn)制程**,而國產(chǎn)泵更多用于成熟制程(如>28nm)。 Pfeiffer真空泵在半導(dǎo)體制造中是不可或缺的“工藝守護(hù)者”,其超高真空技術(shù)、潔凈性和可靠性直接關(guān)聯(lián)到芯片的性能、良率和制程突破。隨著半導(dǎo)體技術(shù)向3nm/2nm演進(jìn),Pfeiffer的分子泵和低溫泵將成為EUV和GAA晶體管工藝的核心支撐。 如需具體型號參數(shù)或某工藝環(huán)節(jié)的深入分析,可進(jìn)一步探討!
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